技术简介: 提供一种低介电常数且不会产生CFX、SIF4等气体的、稳定的半导体装置的层间绝缘膜和具备该层间绝缘膜的布线结构。在具备形成在基底层上的绝缘膜的层间绝缘膜中,所述层间绝缘膜的有效介电常数为3…… 查看详细 >
技术简介: 本发明能够实现等离子体处理装置长度方向的等离子体均匀性,同时与多重处理对应。具有多个可变耦合器(12)的微波导管(10)设置在真空室(21)中,微波发生器(23中发生的微波通过波导管(24导入微波导管…… 查看详细 >
技术简介: 一种强磁场下加热高温处理装置,主要由强磁场发生器、坩埚或结晶器、高频感应加热线圈或电阻加热元件、冷却室、加热室构成,还包括低熔点冷却剂冷却系统或抽真空系统,以及水冷套、保温层、热电偶…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及一种高压交流激励法电容测量电路,该电路由高频高压激励电压产生及幅度控制部分所构成的激励电路和电容检测电路两部分构成。其中激励电路包括交流信号源、压控放大电路、功率放大器以…… 查看详细 >
技术简介: 本发明提供一种能够在电介质的整个下面均一地生成等离子体的等离子体处理装置和方法。其是一种使微波通过形成于导波管(35)的下面(31)的多个缝隙(70)在被配置在处理室(4)上面的电介质(32)中传播,…… 查看详细 >
技术简介: 本发明开发一种等离子体处理的方法,该等离子体处理使用没有温室效应的气体,以实现全球环境保护和等离子体工艺性能的改进,并提供一种可抑制器件损坏的高精度等离子体蚀刻方法。根据本发明的等离…… 查看详细 >
技术简介: 本发明的目的在于提供一种半导体表面的原子洗脱少、能够制成清洁且平坦的半导体表面的处理液、处理方法及半导体制造装置。本发明使用含有醇类或酮类中的至少一种的水溶液,由此能够得到实现从半…… 查看详细 >
技术简介: 一种磁记录介质,其特征在于包括:基底;形成在所述基底上的软磁层;多层底层,包括形成在所述软磁层上的包含铜作为主要成分,并且包含基本上对齐在(111)平面的具有面心立方晶格结构的晶粒的第一底层,…… 查看详细 >
技术简介: 第一部分项目简介概述1.1项目名称条形码电子防盗锁1.2项目研发项目发明人:李建专利号:ZL201020679854.4项目研发地址:辽宁1.3项目概况本项目属新型电子防盗产品,目前属市场空白产品,条形码…… 查看详细 >
技术简介: 这是一种新型的七彩金属镭射标牌铭牌生产技术,产品绚丽多彩,立体感超强,不同的角度可以焕发出不同的色彩,可以充分突出产品的特点,张显个性,相对现在采用的普通铝标牌,电镀标牌,塑料铭牌…… 查看详细 >
技术简介: 本发明提供一种微波等离子体处理装置(100),使通过多个缝隙(37)的微波透过由梁(26)所支撑的多枚电介质零件(31),利用透过的微波使气体等离子体化,对基板G进行等离子体处理。支撑电介质零件(31)的…… 查看详细 >
技术简介: 一种低温等离子体诊断装置,特别涉及等离子体诊断技术,针对现有同类技术抗干扰能力弱、实时性差而公开一种低温等离子体诊断装置;该装置由朗缪尔探针、电源信号产生电路、信号采集电路及电源组成;…… 查看详细 >
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