[00044947]半导体装置的处理液、处理方法及半导体制造装置
联系人： 张耀伟
所在地：辽宁 沈阳市
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技术详细介绍
本发明的目的在于提供一种半导体表面的原子洗脱少、能够制成清洁且平坦的半导体表面的处理液、处理方法及半导体制造装置。本发明使用含有醇类或酮类中的至少一种的水溶液,由此能够得到实现从半导体表面的洗脱少的处理及清洁且平坦的表面的处理液、处理方法及半导体制造装置。
