[00044701]等离子体处理装置
联系人： 张耀伟
所在地：辽宁 沈阳市
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技术详细介绍
本发明能够实现等离子体处理装置长度方向的等离子体均匀性,同时与多重处理对应。具有多个可变耦合器(12)的微波导管(10)设置在真空室(21)中, 微波发生器(23中发生的微波通过波导管(24导入微波导管(10)中,该室(21)中的等离子体(22)由导入的微波(25)激发后产生。由未图示的驱 动装置,按双向箭头所示的方向上下移动每个可变耦合器(12),能够改变微波导管(10)中微波(25)的强度分布。
