[00044900]等离子体处理装置和方法
联系人： 张耀伟
所在地：辽宁 沈阳市
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技术详细介绍
本发明提供一种能够在电介质的整个下面均一地生成等离子体的等离子体处理装置和方法。其是一种使微波通过形成于导波管(35)的下面(31)的多个缝隙 (70)在被配置在处理室(4)上面的电介质(32)中传播,利用在电介质表面所形成的电磁场中的电场能量,使被供给到处理室(4)内的处理气体等离子体 化,对基板(G)实施等离子体处理的等离子体处理装置(1),在电介质(32)下面形成深度各异的多个凹部(80A～80G)。通过使各个凹部 (80A～80G)的深度各异,来控制在电介质(32)下面的等离子体的生成。
