微波等离子体处理装置、电介质窗制造方法

技术简介： 本发明提供一种抑制气体的流速的微波等离子体处理装置。微波等离子体处理装置(100)具有:通过缝隙天线(30)透过微波的由多个电介质零件(310)构成的电介质窗;固定在梁(26)下面的多个气体喷嘴(27);…… 查看详细 >

成膜装置和成膜方法

技术简介： 一种成膜装置及成膜方法。成膜装置具有向喷出容器内喷出有机EL分子气体的结构,具有多个有机EL原料容器、连接多个有机EL原料容器和喷出容器的配管系,多个有机EL原料容器有选择地成为有机EL分子供…… 查看详细 >

基于多核独立元分析的批量生产过程故障检测方法

技术简介： 1、一种基于多核独立元分析的批量生产过程故障检测方法,其特征在于该方法包括以下步骤:步骤一、采集数据采集过程中相关变量的数据,对于每个故障,采集两组数据,即标准操作模式的训练数据和在线监…… 查看详细 >

一种非线性过程故障诊断方法

技术简介： 一种非线性过程故障诊断方法,包括采集数据、进行相似性分析、利用核主元分析对数据进行白化处理,求解白化后的观测变量Z、利用修正独立元分析ICA提取独立元、利用T2和SPE统计量和LS-SVM进行故障…… 查看详细 >

等离子体处理装置及其运转处理方法和电子装置制造方法

技术简介： 本发明提供一种利用不需要远距离腔室和专用微波源等的简单结构就能够清洁处理室内的淀积物的技术。本发明的等离子体处理装置,利用在波导管中传播的、并向在处理室内面上配置的电介质传播的微波,…… 查看详细 >

无线通信装置和无线通信方法

技术简介： 能够维持良好的BER特性并提高传输效率的无线通信装置。在该装置中,设定单元(13)基于延迟波的最大延迟量与FDE的脉冲响应的扩散,对FFT单元(14)设定NC码元的FFT区间,并且对选择单元(17)设定比FFT区…… 查看详细 >

光传感器、固体摄像装置和固体摄像装置的动作方法

技术简介： 本发明提供一种光传感器、固体摄像装置和固体摄像装置的动作方法。在具有接收光并且生成光电荷的光电二极管、和传送光电荷的传送晶体管(或溢流门)的光传感器、固体摄像装置等光设备中,具有经由…… 查看详细 >

板坯连铸二次冷却及动态轻压下离线仿真系统

技术简介： 本发明提供了一种板坯连铸二次冷却及动态轻压下离线仿真系统,主要解决在生产实际中进行动态轻压下参数的调整成本过高的技术问题。仿真系统的计算机内包含有:模拟器内核单元,实现主要浇注条件过…… 查看详细 >

一种高可用群集系统采用单一实IP地址的通讯方法

技术简介： 本发明涉及高可用群集系统采用单一实IP地址的通讯方法。主要解决高可用群集系统只允许单一IP地址接入时,高可用性群集的实IP地址访问受到了限制的技术问题。一种高可用群集系统采用单一实IP地址…… 查看详细 >

等离子体氮化处理方法及半导体装置的制造方法

技术简介： 本发明的等离子体氮化处理方法,由具有多个缝隙的平面天线将微波导入处理容器内,形成含氮气体的微波激发高密度等离子体,在等离子体处理装置的处理容器内,使该高密度等离子体作用于被处理体表面的…… 查看详细 >

磁记录介质以及磁记录和再现装置

技术简介： 本发明提供一种磁记录介质和一种磁记录和再现装置。所述磁记录介质包括基底11、在所述基底11上形成的衬层12、在所述衬层12上形成的磁记录层13、以及在所述磁记录层13上形成的保护层14,所述磁记…… 查看详细 >

半导体装置

技术简介： 本发明提供一种半导体装置,为了使构成CMOS电路的P型MOS晶体管和N型MOS晶体管的动作速度实质上相同,对N型MOS晶体管采取在(100)面和(110)面双方都具有沟道区域的三维构造,对P型MOS晶体管采取仅在(…… 查看详细 >