[00044617]微波等离子体处理装置、电介质窗制造方法
                
                    
                        交易价格:
                        
                            面议
                        
                    
                    
                        所属行业:
                                                
                        
                            微电子
                        
                        
                        
                    
                    
                        类型:
                        专利
                    
                    
                    
                        技术成熟度:
                        正在研发
                    
                    
                    
                    专利所属地:中国 
                    专利号:200710163060.5
                    
                    
                        交易方式:
                        
                        
                        
                            完全转让
                        
                        
                        
                        
                    
                 
                
                    
                        联系人:
                        张耀伟
                    
                    
                    
                    
                    所在地:辽宁 沈阳市
                    
                        - 服务承诺
 
                        - 产权明晰
 
                        - 
                            资料保密
                            
 对所交付的所有资料进行保密 
                         
                        - 如实描述
 
                        
                    
                 
             
            
            
         
        
            
                
技术详细介绍
            
            
                  本发明提供一种抑制气体的流速的微波等离子体处理装置。微波等离子体处理装置(100)具有:通过缝隙天线(30)透过微波的由多个电介质零件(310)构成的电介质窗;固定在梁(26)下面的多个气体喷嘴(27);供给规定的气体的气体供给部;用透过电介质窗的微波使规定的气体成为等离子体,对被处理体进行处理的处理室(U)。各电介质零件(31)具有:具有第一气孔率的第一多孔材料(31PH);和连接于第一多孔材料(31PH)并且具有小于第一气孔率的第二气孔率的第二多孔材料(31P1)。气体供给部通过第一多孔材料(31PH),从第二多孔材料(31P1)将氩气导入处理室内(U),并从气体喷嘴(27)将硅烷气体导入处理室内(U)。