光刻机十年成果汇报会举行

光刻机十年成果汇报会

科技部副部长曹健林出席并讲话

　　2012年4月7日，光刻机十年成果汇报暨上海微电子装备有限公司十年回顾活动在沪举行。全国人大常委会副委员长严隽琪发来贺信，全国政协常委、教科文卫委主任、原国家科技部部长徐冠华，科技部副部长曹健林，上海市委常委、常务副市长杨雄出席并讲话。

　　十年前，国家科技部“十五”重大科技专项100nm高端光刻机的研制任务落户上海，上海微电子装备有限公司（简称SMEE）肩负起为我国集成电路产业发展研制关键装备——光刻机的历史使命，在上海张江高科技园区这片创新的热土诞生。

　　十年来，从跟踪国际专利，到不断掌握具有完全自主知识产权的高端光刻设备的总体设计技术、集成技术和关键单元技术，形成系列完整的产品。上海微电子装备有限公司填补了国内光刻机在该领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平，大大缩短了我国半导体设备与国外技术差距。

　　光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，是集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体，各种尖端交叉融合的复杂大系统产物，它的研发过程及研发成果对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。光刻机在国家“十五”、“十一五”、“十二五”发展规划中都被明确定义为重点制造装备，并被列入国家科技重大专项。

　　通过十年的努力，SMEE具备了高端光刻机的系统设计与集成测试的能力，掌握了光刻机多项核心关键技术并拥有了这一领域的多项自主知识产权，成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后的第4家掌握高端光刻机的系统设计与系统集成测试技术的公司。自主设计、制造和集成的国内首台高端投影光刻机于2007年问世，使国内高端光刻机的水平在原有i线光刻机样机基础上实现了几代的跨越和重大突破。首台先进封装光刻机于2009年下半年实现了销售并上用户生产线运行至今两年多，连续封装了几十万片硅片，设备性能稳定，得到了客户较高的评价和认同。目前该系列产品已形成小批量产能，已实现销售4台，今年已接订单6台，并有台湾、新加坡等海外市场意向订单多台。2011年，研发完成了0.31nm的中高端双频激光干涉测量系统，并应用于先进封装光刻机和OLED光刻机产品的配套，2012年将形成系列产品进入国内高端精密检测设备市场。目前，SMEE已申请中国专利900多项，其中大部分为发明专利，是上海市专利工作和知识产权示范企业。

　　历经十载，SMEE逐步形成了一支勤于钻研、乐于奉献的光刻机设计、集成优秀人才队伍。团队中拥有国家千人计划专家、上海千人计划专家、上海是科技领军人才、上海市科技启明星以及一大批专业工程师和富有经验的高级技工人才。这些经过不过锤炼所形成的人才，是国家和上海的财富，更是提升国家和上海先进制造业和高技术装备的生力军。