西安光机所发明“单晶硅炉水垢的清洗方法”

　　目前，对单晶硅炉等精密机械的水垢清洗均采用单一的清洗液来进行，但由于上述机械结构较为复杂且包含了多种不同材质的零件，这样造成采用单一的清洗液洗时无法彻底清除水垢，也可能导致部分材质被腐蚀。无法彻底清除水垢会增加上述机械的实用成本，而腐蚀部分材质时可能产生巨大的安全隐患。

　　中科院西安光学精密机械研究所科研人员针对这一问题进行了深入研究，发明出一种清洗单晶硅炉炉内所形成水垢的清洗方法，主要应用于单晶硅炉等精密机械的水垢清洗。该方法解决了现有清洗方法不能彻底清洗单晶硅炉炉内的水垢，或清洗时可能造成单晶硅炉内中其他材质损坏的问题。

　　该单晶硅炉水垢的清洗方法是：先将一定量的水放入带有超声波振荡和加热装置的储液箱，将水加热至10～60℃；将酸液分别缓缓加入储液箱，开启超声波进行搅拌；通过清洗液的高速冲刷和反应来清洗水垢等步骤处理，完全清洗掉水垢。

　　该方法于5月2日获得发明专利授权，专利号为“ZL201010574823.7”。