本发明公开了一种半导体清洗剂组合物和清洗方法，其清洗剂组合物包括一种碱0.01wt.％～10wt.％；螯合剂0.01wt.％～0.5wt.％；精氨酸和2‑氨基‑2‑甲基‑1‑丙醇的组合0.01wt.％～5wt…… 查看详细 >

本发明涉及一种太阳能硅晶片清洗剂，其组分按重量百分比，10％～30％的氮川三乙酸钠络合剂，5％～10％的C10-C13羰基异构醇乙氧基化合物表面活性剂，3％～5％的脂肪醇烷氧基化合物表面…… 查看详细 >

本发明属于废水生物强化处理领域，具体涉及一种提高低温环境下清洗剂废水微生物处理效果的激活促进剂。光伏产业清洗剂废水具有高COD、高pH值等特点，使用常规生物处理方法难以达标排…… 查看详细 >

本发明提供了一种光学玻璃清洗剂，由总数为100份的以下重量百分比的原料组成：氢氧化钠6‑8，氢氧化钾20‑24，EDTA四钠0.4‑0.6，葡萄糖酸钠2‑2.5，非离子表面活性剂4‑6，乳化剂4‑…… 查看详细 >

本发明涉及高温铬锡紫颜料的制备方法，按以下组分(重量百分比)制备铬锡紫颜料：超细氧化锡85～90%，氟化锂1～5%，氟化铵1.5～3%，氧化铒0.5～1.5%，硝酸钾3～8%，铬化物2～10%和铵化…… 查看详细 >

本发明公开了一种低蚀刻性的适用於较厚光刻胶清洗的清洗液。这种低蚀刻性的光刻胶清洗液含有：氢氧化钾、常用溶剂、季戊四醇、醇胺及酚类化合物，该酚类化合物选自间苯二酚及其衍生物…… 查看详细 >

本发明涉及工业清洗剂技术领域，特别涉及一种高效环保工业重油污清洗剂。本发明的清洗剂包括或含有氢氧化钾、偏硅酸钠、葡庚酸钠、椰子油二乙醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠、烷基糖…… 查看详细 >

本发明涉及一种无氟铝材清洗剂，由以下按质量百分比计的组分制备而成：氢氧化钾10‑15％、山梨糖醇1‑4％、葡萄糖酸钠2‑4％、聚氧乙烯型非离子表面活性剂4‑5％、十二烷基苯璜酸钠3…… 查看详细 >

本发明金属表面除油清洗剂，原料质量配比；氢氧化钾4～10、硫酸钠20～30、磷酸三钠10～20、碳酸钠10～15、三聚磷酸钠、5～10、渗透剂JFC-M1～4、乳化剂FMES6～10、乳化剂OP-103～5、…… 查看详细 >

本发明公开了一种光学玻璃清洗剂，该清洗剂包括：氢氧化钾10‑24％、乙二胺四乙酸四钠盐或次氮基三乙酸1‑10％、脂肪醇聚氧乙烯醚1‑5％、三乙醇胺1‑8％、二月桂酸二丁基锡1‑5％、…… 查看详细 >