专利简介
本发明属于新材料及膜技术领域，提供了主链含咪唑盐基团的阴离子交换膜的制备方法。该制备方法包含以下步骤：(1)对双咪唑原料以及双溴原料进行亲核反应生成骨架上带有咪唑官能团的聚合物；(2)将合成的聚合物，聚苯并咪唑(PBI)分别溶解在极性有机溶剂中，超声得到均一溶液；(3)采用溶液浇铸法制备复合膜材料；(4)将上述复合膜完全浸泡在1mol/L KOH溶液中水解；(5)将复合膜浸泡在去离子水中清洗，得到阴离子型聚合物电解质膜。本发明中通过调控三种不同聚合物以及PBI在膜中的含量，实现不同咪唑含量的控制，增强了膜的柔韧性和机械性能，制备的复合膜在30～80℃下具有良好的导电能力。
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