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一种展青霉素人工抗原合成方法及其单克隆抗体的制备和应用

专利(申请)号:CN114716535B

专利类型:

支付方式:支付宝微信

价格:面议

服务承诺:无滞纳金、无恢复费、20个工作日完成变更

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专利简介
本发明公开了一种展青霉素人工抗原合成方法及其单克隆抗体的制备和应用,具体涉及生物技术领域。所述方法包括展青霉素半抗原的制备,将展青霉素溶解于DMF中后,加入KOH,溶解后加入三巯基丙酸和NaI,加热反应,干燥,纯化后即得展青霉素半抗原;展青霉素人工抗原的制备,先将NHS和EDC溶解于超纯水中,制得超纯水溶液,再将超纯水溶液缓慢的滴加入展青霉素半抗原的DMF溶液中,进行活化,得展青霉素半抗原活化液;将展青霉素半抗原活化液与大分子蛋白偶联物偶联后透析分装即得展青霉素人工抗原。以免疫检测的方法检测展青霉素的含量,该方法具备快速、灵敏、准确、操作简便等特点,且对样品纯度要求不高,特别适用于大批量样品的检测。
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