一种光卤石晒制系统及方法
专利(申请)号:CN109336137B
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专利简介
本发明公开一种光卤石晒制系统,光卤石晒制系统包括依次连接的光卤石太阳池、预晒太阳池、成矿太阳池、及尾卤太阳池,成矿太阳池与光卤石太阳池连接,光卤石太阳池收集钾肥生产系统排出的波美度在28‑34.5之间的老卤进行第一次晒制,形成一次老卤,钾离子的质量分数小于0.02%时将一次老卤导入预晒太阳池进行第二次晒制,形成二次老卤,二次老卤的波美度为35.5时将二次老卤导入成矿太阳池进行第三次晒制,形成尾卤,尾卤的波美度为36.2~36.7时将尾卤导入光卤石太阳池。根据本发明提供的光卤石晒制系统及方法,通过尾卤与老卤共同兑卤,使得光卤石能够迅速析出,晒制时间大为缩短,同时将尾卤及时排出,降低水氯镁石中的硫酸根离子,为后续的金属镁生产降低成本。
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