[00075999]一步模板法制备有序铁电纳米点阵列的方法
交易价格:
面议
所属行业:
纳米及超细材料
类型:
发明专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:CN201710377563.6
交易方式:
完全转让
许可转让
技术入股
联系人:
许恩平
所在地:广东 广州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
摘要:本发明涉及一种一步模板法制备有序铁电纳米点阵列的方法,其包括以下步骤S1采用脉冲激光沉积法在衬底上沉积高性能外延铁电薄膜;S2转移单层PS小球至铁电薄膜表面作为掩模板;S3将附有掩模板的衬底用氧等离子体刻蚀处理,得到待刻蚀样品;S4将所述待刻蚀样品置于离子束刻蚀机中进行刻蚀;S5去除残留的单层PS小球掩模板,得到有序的铁电纳米点阵列。该制备方法简单、模板清除方便,且制得的铁电纳米点保存了铁电薄膜优异的外延性和铁电性,适合大面积制备。