[00069876]宽幅激光干涉光刻直写设备与应用
联系人： 仇国阳、田天
所在地：江苏 苏州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
技术投资分析：
这是一项代表我国激光超微细加工领域最好水平的干涉激光图形加工系统。应用领域：
1、 精密激光图形加工（Super-Precision Laser Lithography）
2、 显示用衍射光导器件
3、 激光衍射图像
4、 精密电路掩模
5、 200nm以上纳米点阵结构光刻
性能指标：
重复定位精度：0.5微米
光点尺寸：1-10，10-40，40-250微米可调
光点周期结构精细度：0.4-10微米
图形幅面：610mmx800mm
激光波长：351nm（200mw，10W）
运行速度：0-500mm/s
创新内容：采用干涉光学头和DPSSL紫外输出激光351nm光束，产生0.4-10微米结构光点，在材料表面直接光刻，形成具有微米结构调制的图像。在610mmx800mm的幅面上，直写各种精密图形包括激光光变图形。该装备是目前国际上最先进的微米、亚微米结构图像的光刻系统。
这是大幅面亚微米结构精密图形制造的关键设备。
技术的应用领域前景分析：
该技术针对行强，市场广泛。
效益分析：
技术支持深厚，利润高
厂房条件建议：
无
备注：
无
