[00063593]多靶磁控溅射系统
联系人： 齐晴
所在地：上海 崇明
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
技术投资分析：
该系统具有以下特点：①靶材料利用率高②薄膜均匀性好③性价比良好。
其核心部件--等离子体源技术达到国际先进水平。整套设备的整体性能达到国外设备水平，而价格却大为降低。可以改变国内此类产品高端设备依赖进口的现状，市场良好。
技术的应用领域前景分析：
用于制备各种金属、合金薄膜及氮化物、氧化物、碳化物等硬质薄膜（如TiN，SiC），光学薄膜可精确控制合金成分。
效益分析：
本发明具有明显的社会效应和很大的经济效益。
厂房条件建议：
无
备注：
无
