[00063554]一种可降低量子点激发电压的复合薄膜制备方法
联系人： 齐晴
所在地：上海 崇明
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技术详细介绍
技术投资分析：
本发明通过引入高介电常数的铁电材料与发光量子点交替共沉积，获得量子点镶嵌于铁电薄膜中的复合结构，利用其局域场效应，大幅提高了量子点内的电场强度，利用硫磺做保护层进行真空热处理，有效地防止了热处理过程中硫的损失，保证了量子点具有完整的结构。从而达到了降低量子点激发的电压的目的，大大拓展电致发光薄膜材料及器件的应用领域。
技术的应用领域前景分析：
本发明涉及一种可降低量子点激发电压的复合薄膜制备方法，属于先进光电材料技术领域。
效益分析：
本技术市场应用范围广，利润丰厚，效益十分可观。
厂房条件建议：
无
备注：
无
