[00060283]轻金属表面陶瓷化技术及设备

技术简介: 　　微等离子体氧化（Micro Plasma Oxidation）技术，也称微弧氧化（MAO——Micro Arc Oxidation）、阳极火花沉积(ASD——Anodic Spark Deposition)、阳极火花工艺(SAP——Spark Anodisation Process)等多个名称，是利用等离子体弧光放电特性，增强基体表面与电解液发生的化学反应，并在基体材料表面形成陶瓷膜层。 　　有色金属表面经过微等离子体氧化处理后，表面性能除了具有良好的整体韧性、耐腐蚀、耐磨特性外，还具有功能陶瓷的一些特性，如磁电屏蔽、特殊的热导性、抗积碳特性及良好的绝缘性等。通过表面氧化处理，使合金部件的性能显著改善，使用寿命大幅度提高，拓展了使用范围。微等离子体氧化（Micro Plasma Oxidation）技术是国际公认的绿色环保型表面技术。 ◆陶瓷膜层基本特性 　　l 显微硬度：500～1500Hv 　　l 莫氏硬度：9级 　　l 膜层厚度：30～150mm 　　l 空气中击穿电压（Max）：800V 　　l 模拟海水击穿电压（Max）：50 V 　　l 耐磨性：优于阳极氧化膜层 　　l 盐雾腐蚀试验：200～1000h ◆陶瓷膜层组织形态 　　铝合金陶瓷层 镁合金陶瓷层 陶瓷层界面形态 ◆工艺流程及装置 　　工件漂洗e超声短时综合清洗e微等离子体氧化e清水冲洗e烘干e包装入库 ◆ 技术应用 　　微等离子体氧化除用于铝、钛、锆、铌等几种有色金属表面氧化处理外，还可用于铝硅、铝镁合金、钛合金等的表面氧化。通过对钢进行特殊处理，可在钢表面实现冶金扩散型梯度特征的陶瓷层。 　　铝、钛合金微等离子体氧化广泛应用于汽车、航空航天、航海造船、生物医用材料及纺织工业中。国内外相继在建筑用铝合金装饰部件、汽车发动机活塞、飞机隐身、微机磁电屏蔽机壳、绝缘器件等多环境实用化。