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[00005705]一种新型的正交狭缝光波导结构及制造方法

交易价格: 面议

所属行业: 光学仪器

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201410579910.X

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 陈红兵

所在地:重庆 重庆市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

摘要:本发明公开了一种新型的正交狭缝光波导结构及制造方法,包括衬底(101),位于衬底(101)上的单晶硅层(102)及位于单晶硅层(102)上的正交狭缝结构,正交狭缝结构包括:正交结构的狭缝区域(104,105,107),位于狭缝区域(104,105,107)正交交汇的中心区域(108)及包围狭缝区域(104,105,107)的周围区域(103,106),中心区域(108)的折射率小于狭缝区域(104,105,107)的折射率,周围区域(103,106)的折射率大于狭缝区域(104,105,107)的折射率。本发明实现光场在狭缝结构中传输时的二维限制,并且通过调整结构尺寸和狭缝区域的材料,可以实现波导的色散与非线性特性的有效调节。

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