[00048733]透明导电薄膜制备技术
联系人： 孔老师
所在地：江苏 南京市
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技术详细介绍
透明导电薄膜是指那种对可见光的平均透过率高（T80%）、电阻率低（ρ10-3Ωｃｍ）的薄膜，在太阳能电池、平板显示器、薄膜晶体管、气敏元件、抗静电涂层等领域具有广阔的应用前景。传统的透明导电薄膜是指氧化铟锡(俗称ITO)，ITO中其透过率和电阻率分别由SnO2与In2O3之比来控制，一般SnO2:In2O3=1:9。由于铟是一种稀缺金属，近年来人们一直在探索其他的替代材料。Zn是地壳中蕴藏量较丰富的一种元素，本项目采用磁控溅射法和溶胶-凝胶法制备的掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜，对可见光平均透过率大于90％，电阻率低于510-4Ωcm，具有广阔的应用前景。已发表科研论文十多篇。
技术特点：1.利用磁控溅射技术结合原位加热方法，在玻璃衬底上生长高质量AZO薄膜；2.利用磁控溅射技术通过调节生长气压和射频功率，在室温下柔性衬底上制备高质量AZO薄膜；3.采用对设备要求低、原材料价格低廉的溶胶-凝胶法制备技术；4.特殊气氛下热处理技术；5.场诱导结晶技术。
应用领域与前景：太阳能电池电极和触摸显示屏等的制备，替代进口产品，降低相关器件的制备成本。
