[00048036]红外高反射ZnO:Ga镀膜玻璃透明导电薄膜制备
联系人： 张冬美,叶青青
所在地：浙江 杭州市
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资料保密
对所交付的所有资料进行保密
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技术详细介绍
高品质透明导电薄膜在信息技术领域的先进触摸导电技术和显示透明电极技术方向具有巨大应用市场。早在1986年我们就开展ZnO掺In透明导电薄膜研究。目前又是我们国际上首先报道了由直流反应磁控溅射方法制备得透明高导电近红外高反射ZnO：Ga薄膜新成果，电子载流子浓度达2.5×1021cm-3,方电阻2.6×10-4賑m-3，可见光高透明,大于90％，而在波长1500nm处透射率低于10％，近红外反射率高于70％，光电性能指标为国际先进，近红外反射性能国际领先。其光电性能优于ITO透明导电膜，而制造成本比ITO低，具有重要应用前景。在透明导电ZnO薄膜方向发表论文近20篇，发明专利4项。
