[00045191]成膜及电子设备或有机电致发光元件的制造方法
联系人： 张耀伟
所在地：辽宁 沈阳市
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技术详细介绍
本发明提供一种半导体装置的制造方法,其中,为了不向半导体表面照射光而进行遮光并同时利用液体进行表面处理。本发明如果用于半导体表面的清洗、蚀刻、显影等湿式制程(WETPROCESS)的表面处理,则可以减低表面微粗糙度的增大。这样,可以提高半导体器件的电特性或成品率。
