[00045130]簇射极板及采用该簇射极板的等离子体处理装置
                
                    
                        交易价格:
                        
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                        所属行业:
                                                
                        
                            微电子
                        
                        
                        
                    
                    
                        类型:
                        专利
                    
                    
                    
                        技术成熟度:
                        正在研发
                    
                    
                    
                    专利所属地:中国 
                    专利号:200680041735.2
                    
                    
                        交易方式:
                        
                        
                        
                            完全转让
                        
                        
                        
                        
                    
                 
                
                    
                        联系人:
                        张耀伟
                    
                    
                    
                    
                    所在地:辽宁 沈阳市
                    
                        - 服务承诺
 
                        - 产权明晰
 
                        - 
                            资料保密
                            
 对所交付的所有资料进行保密 
                         
                        - 如实描述
 
                        
                    
                 
             
            
            
         
        
            
                
技术详细介绍
            
            
                  本发明提供一种等离子体处理用簇射极板,是由多个配管形成的等离子体处理用簇射极板(31),配管(31A3)由多孔质材料构件(44)和金属构件 (41)构成,该多孔质材料构件(44)被沿着配管配置,对于原料气体具有规定的气孔率,朝向外侧呈凸状;该金属构件(41)与多孔质材料构件(44)对 向配置,与多孔质材料构件(44)一起形成原料气体流路(43)。可以实现一种喷嘴构造,使原料气体呈扩散状喷出。