[00045130]簇射极板及采用该簇射极板的等离子体处理装置
交易价格:
面议
所属行业:
微电子
类型:
专利
技术成熟度:
正在研发
专利所属地:中国
专利号:200680041735.2
交易方式:
完全转让
联系人:
张耀伟
所在地:辽宁 沈阳市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
本发明提供一种等离子体处理用簇射极板,是由多个配管形成的等离子体处理用簇射极板(31),配管(31A3)由多孔质材料构件(44)和金属构件 (41)构成,该多孔质材料构件(44)被沿着配管配置,对于原料气体具有规定的气孔率,朝向外侧呈凸状;该金属构件(41)与多孔质材料构件(44)对 向配置,与多孔质材料构件(44)一起形成原料气体流路(43)。可以实现一种喷嘴构造,使原料气体呈扩散状喷出。