[00044334]一种GaN基LED外延片及其制备方法
联系人： 许恩平
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技术详细介绍
本发明涉及半导体光电子器件领域，特别是一种新型结构的GaN基LED外延片及其制备方法。该新型的GaN基LED外延片的结构从下至上依次为衬底、n型层、量子阱、限制层、缓冲层及p型层，其特点是p型层为空穴浓度为2×10 18 ～6×10 18 cm -3 的掺受主的GaP层，并在缓冲层与量子阱之间生长一n型限制层。p型层空穴浓度增大，可降低p型层电阻，外加电压下能增加空穴的注入，并使电流扩散更均匀。同时，限制层能克服由于GaP禁带宽度小，对量子阱内电子和空穴的限制作用小的缺点，大大增强对量子阱内的电子和空穴起限制作用，增大量子阱中电子和空穴的复合，从而明显改善GaN基LED的性能。
