[00033731]磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法
交易价格:
面议
所属行业:
其他化学化工
类型:
发明专利
技术成熟度:
通过中试
专利所属地:中国
专利号:200910195127.2
交易方式:
完全转让
联系人:
汪元元
所在地:上海 上海市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
发明专利名称:
磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法
发明专利简介:
一种固体润滑技术领域的磁控溅射制备减磨MoS2/C/Ti复合薄膜的方法,包括:第一步、将基片抛光后超声清洗并烘干,装入溅射室内;第二步、在溅射室中进行纯钛溅射和复合层溅射,然后待溅射室自然冷却至室温,制备得到磁控溅射制备减磨复合薄膜。本发明制备工艺简单,沉积过程易于控制,薄膜沉积后无需进行热处理,可直接作为机械零部件表面的减摩防护薄膜使用,制备所得的复合薄膜纳米硬度达到5.9GPa,摩擦系数可达到0.03。