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[00025751]选择超晶格位置掺杂的p型Ⅲ族氮化物材料的制备方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他新材料技术

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:200810071176

交易方式: 完全转让 许可转让 完全转让

联系人: 周林成

所在地:福建 厦门市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

  项目简介:

  选择超晶格位置掺杂的p型Ⅲ族氮化物材料的制备方法,涉及一种Ⅲ族氮化物半导体材料。提供一种用于制备电阻率小、空穴浓度高的选择超晶格位置掺杂的p型Ⅲ族氮化物材料的制备方法。选择同质或者异质的基质材料;在基质材料上外延生长形成变换叠加的垒层和阱层,在垒层与阱层的界面和阱层与垒层的界面掺入施主杂质和受主杂质,得选择超晶格位置掺杂的p型Ⅲ族氮化物材料,其中,每个生长周期的步骤为:生长带隙较宽的垒层,同时掺入受主杂质;生长施主杂质或受主杂质δ掺杂层;生长非掺的带隙较窄的阱层;生长受主杂质或施主杂质δ掺杂层;在N↓[2]气氛下对所得的选择超晶格位置掺杂的p型Ⅲ族氮化物材料退火,即得目标产物。


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