[00023656]一种用于玻璃双面沉积SiO2减反射磁控溅射镀膜设备及工艺
联系人： 黄健
所在地：江苏 常州市
- 服务承诺
- 产权明晰
-
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
- 如实描述
技术详细介绍
传统采用溶胶-凝胶方法是通过喷涂或者提拉方法在玻璃表面形成胶体，然后再高温退火在玻璃表面形成SIO2减反射层。这种工艺不适合工业化批量生产，且生产过程中有严重的污染，另外沉积的涂层和玻璃结合力一般。
本发明采用的镀膜设备，采用反应磁控溅射方法在玻璃两面同时沉积SIO2涂层。通过改进的溅射工艺，沉积的SiO2折射率在1.5-1.3之间可控，且沉积速度快。单面SIO2减反射层可以将透过率提高2%（双面即4%）。
技术成熟度里有一个应用，沉积的膜接近厚180nm，沉积时间6min，沉积速度为30nm/min。由于采用直流反应溅射工艺，且平面SI靶功率加载过高容易裂开。因此如果采用中频溅射圆柱靶工艺，实际沉积速度和质量（SIO2折射率）还可以大幅度提高。
该技术在电子、太阳能行业有广泛应用。电子行业如触摸屏。太阳能上如果玻璃盖板采用减反射玻璃，可以增加透光率，提高太阳能利用效率。
技术转让包括设备和工艺。
本发明采用的镀膜设备，采用反应磁控溅射方法在玻璃两面同时沉积SIO2涂层。通过改进的溅射工艺，沉积的SiO2折射率在1.5-1.3之间可控，且沉积速度快。单面SIO2减反射层可以将透过率提高2%（双面即4%）。
技术成熟度里有一个应用，沉积的膜接近厚180nm，沉积时间6min，沉积速度为30nm/min。由于采用直流反应溅射工艺，且平面SI靶功率加载过高容易裂开。因此如果采用中频溅射圆柱靶工艺，实际沉积速度和质量（SIO2折射率）还可以大幅度提高。
该技术在电子、太阳能行业有广泛应用。电子行业如触摸屏。太阳能上如果玻璃盖板采用减反射玻璃，可以增加透光率，提高太阳能利用效率。
技术转让包括设备和工艺。
