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[00020726]一种亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜及制作方法

交易价格: 5 万元

所属行业: 其他电子信息

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:ZL201110377643.4

交易方式: 5年独占许可转让

联系人: 周庆礼

所在地:天津 天津市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

本发明提供了一种亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜及制作方法,该亚波长金属-介质光栅反射偏振光变膜包括介质基底层、金属层、光栅层,透明介质层、半透明金属层、透明保护层,所述光栅层为金属材料和介质材料构成的亚波长金属-介质光栅,所述的金属材料和介质材料间隔排列。该光变膜有特殊的反射偏振光变性能,可用于装饰、防伪等领域。在制作工艺上,用纳米压印(或模压)与镀(或涂布)相结合的技术加工,制作过程简便易操作,可以批量生产。制作的光变膜内含有同参数的正弦金属-介质光栅,而光变膜的设计却基于矩形金属-介质光栅结构,它们有相似的颜色特征。

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