交易价格: 面议
所属行业: 其他化学化工
类型: 非专利
技术成熟度: 正在研发
交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股
联系人: 李红
所在地:江苏 镇江市
一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂 本发明公开了一种用于去除硅片表面污斑的清洗剂,由聚乙烯醇衍生物为20~40%,辛基苯烷基聚氧乙烯磷酸酯为30~50%,OP为1~3%,十二烷基硫基乙酸钠为15~30%,水为2~10%组成。本发明制备工艺简单,成本低;用于单晶硅、多晶硅表面污斑的清洗,操作方便,去污快,效果好,同时还具有防止单晶硅、多晶硅表面形成污斑的功效。
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