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[00011858]一种基于二维邻域合成孔径聚焦的超声C扫描成像方法

交易价格: 面议

所属行业: 其他新材料技术

类型: 发明专利

技术成熟度: 正在研发

专利所属地:中国

专利号:CN201110458080.1

交易方式: 完全转让 许可转让 技术入股

联系人: 谭平凡

所在地:湖南 长沙市

服务承诺
产权明晰
资料保密
对所交付的所有资料进行保密
如实描述

技术详细介绍

  本发明公开了一种基于二维邻域合成孔径聚焦的超声C扫描成像方法(专利号201110458080.1),包括探头声束扩散角的可视化、建立聚焦处理点邻域的数学模型、采集超声A波信号、合成聚焦处理超声A波信号、对缺陷进行超声C扫描成像五个步骤,本发明的技术效果在于,通过以目标点为中心的二维邻域进行聚焦,同时考虑探头的晶片直径、近场长度、声束扩散角来决定合成孔径聚焦处理点的邻域,使扫描结果相比现有的SAFT方法更加精确,有效地抑制声束扩散角对超声无损检测的不利影响,从而提高了超声C扫描成像的精度。

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