联系人: 牛广召
所在地:陕西 西安市
柔性掩膜板。
成果简介:
光学光刻技术已经在微电子制造领域得到了广泛的应用,光学光刻所采用的掩膜板通常是玻璃基板加上金属铬镀层构成的,由于玻璃基板硬度较大、缺乏柔性,因而光学光刻技术只能适用于平面基底的光刻加工,无法对曲面基底进行光刻加工,同时也不适宜于进行大面积基底的光刻加工。
针对上述问题,本技术研发了一种柔性掩膜板,包括柔性基板,柔性基板上方依次设有粘结层、金属图形结构层和柔性封装层;柔性基板采用透明性柔性材料制成;柔性基板的材质为聚碳酸酯或聚二甲基硅氧烷;粘结层的材质为环氧树脂胶粘剂;金属图形结构层的材质为铝或铜;柔性封装层的材质为聚二甲基硅氧烷。
本技术研发的柔性掩膜板能够对曲面基底进行光刻加工,而且其可以自然吸附到基底上实现紧密接触,不需要进行传统的抽真空处理,这使得本技术的柔性掩膜板适宜于进行大面积基底的光刻加工。
应用范围:本技术用于电子产品及其微纳米制造技术领域的光学光刻加工。
合作方式:技术转让、技术开发、技术服务。
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