[00000311]一种原位分析专用光源装置
联系人： 武汉大学
所在地：湖北 武汉市
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技术详细介绍
本专利公开了一种原位分析专用光源装置
该原位分析专用光源装置包括基底板（1）和相对的位于基底板（1）两侧的挡板⑵；所述基底板（1）上设置有与原位分析反应管大小匹配的凹槽⑶，所述挡板（2）内测和凹槽（3）内均设置有光源（4）；所述挡板⑵外壁上设置有为百叶窗型散热片（5）。所述原位分析专用光源装置还包括变压器⑹，所述光源（4）通过电线与变压器（6）连接。本实用新型将原本单一照射、光照分散的光源，分拆放置在两侧边和底部，光照更集中，单位面积光强更大。同时基底设计有可以与原位分析反应器嵌合的凹槽，可达到稳定反应，充分利用底部光源的效果。原位分析专用光源装置在两边还加设有百叶型挡板，增大散热面积，防止光线逸出，避免两台反应装置相互之间的影响。
该原位分析专用光源装置包括基底板（1）和相对的位于基底板（1）两侧的挡板⑵；所述基底板（1）上设置有与原位分析反应管大小匹配的凹槽⑶，所述挡板（2）内测和凹槽（3）内均设置有光源（4）；所述挡板⑵外壁上设置有为百叶窗型散热片（5）。所述原位分析专用光源装置还包括变压器⑹，所述光源（4）通过电线与变压器（6）连接。本实用新型将原本单一照射、光照分散的光源，分拆放置在两侧边和底部，光照更集中，单位面积光强更大。同时基底设计有可以与原位分析反应器嵌合的凹槽，可达到稳定反应，充分利用底部光源的效果。原位分析专用光源装置在两边还加设有百叶型挡板，增大散热面积，防止光线逸出，避免两台反应装置相互之间的影响。
