技术简介: 本发明涉及一种亚稳态储能粒子-SiO(b3∏)的合成装置,高温热解炉为管式结构,其由外向内依次为密封外壳、保温层和炉膛,在炉膛的中部轴向设置有热电偶,炉膛外壁缠绕有电热丝;SiH4储气瓶经气体…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及白宝石晶体的表面加工方法,具体地说是用重量浓度30-50%二氧化硅水溶液进行化学机械抛光,精抛光的操作条件为:溶液PH值为9~11,温度控制在22~25℃,机床转速为40~100转/分,抛光…… 查看详细 >
技术简介: 本实用新型涉及高能激光器,具体地说是一种高能激光使用的线偏振光控制光学谐振腔,在谐振腔的光轴上按布儒斯特角放置有一个偏振控制镜,由谐振腔腔镜和偏振控制镜一同构成具有线偏振光输出特性…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及一种燃烧驱动全气相碘激光燃烧室的点火控制装置及控制方法,其装置具有数据采集控制器,其输出的控制电压经调压器及驱动电路与火花器相连,火花器再经导线接至火花塞;数据采集控制器…… 查看详细 >
技术简介: 本发明提供一种应用于化学氧碘激光器的高效除水方法和装置,通过让从单重态氧发生器中出来的气流与浓硫酸液流逆向流动,高效除去气流中的水气。该装置由除水射流储液罐、除水射流喷头、除水射流…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及可见波段的钠原子化学激光输出装置,具体地说是一种可见波段的钠原子化学激光器,N2O与通过高温管式炉炉膛的主气流于气体出口处相交反应,形成SiO(b3∏)合成区;Na蒸汽与经过合成区的…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及一种加工具有微孔的RB-SiC表面加工及处理方法,在RB-SiC基底采用表面沉积或能流注入方法产生致密化的加工层;然后对致密化的加工层进行常规精抛光加工,再采用纳米抛光方法对加工层进…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及氯酚污染物的光降解去除方法,具体地说是一种太阳照射下海水催化降解氯酚类污染物的方法,以天然海水为稀释液,将氯酚类污染物稀释成质量浓度为1-300mg/L的氯酚类溶液,反应容器为透…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及一种用于自然光催化降解氯酚类污染物的方法。首先于质量浓度为10-2-300mg/L的氯酚类污染物水溶液中加入催化剂,所述催化剂由组分A和B组成,A为二价或三价可溶性铁盐,B为碱金属的可溶…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及蒽醌染料废水的光催化氧化处理,具体地说是一种用于蒽醌染料废水处理的光催化氧化方法,首先用酸或碱调节蒽醌染料废水的pH值≤12,再加入催化剂,一次性鼓入空气,然后在光照培养箱中…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及醛或酮的制备,具体地说是一种温和条件下催化空气氧化醇制备醛或酮的方法,按5mmol的反应底物计,以1-8%的2,2,6,6-四甲基哌啶-氧自由基(TEMPO)或其衍生物、4-20%的含卤化合物和4…… 查看详细 >
技术简介: 本发明涉及有机催化,具体的说是含有伯胺、叔胺和脲或硫脲的有机催化剂及其制备,在一个催化剂分子中,分别含有一个或一个以上的伯胺、一个或一个以上的叔胺、和一个或一个以上的脲或硫脲功能基…… 查看详细 >
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